Please use this identifier to cite or link to this item:
https://cuir.car.chula.ac.th/handle/123456789/69350
| Title: | Preparation of titanium dioxide thin film on glass plate ssing sol-gel technique for photocatalytic reduction of chromium (VI) |
| Other Titles: | การเคลือบผิวฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์บนแผ่นแก้วด้วยวิธีโซลเจล สำหรับการกำจัดโครเมียมด้วยวิธีโฟโตคะตะไลติกรีดักชัน |
| Authors: | Siriwan Pongpom |
| Advisors: | Puangrat Kajitvichyanukul |
| Other author: | Chulalongkorn University. Graduate School |
| Advisor's Email: | No information provided |
| Subjects: | Thin films Titanium dioxide Chromium Photocatalysis ฟิล์มบาง ไทเทเนียมไดออกไซด์ โครเมียม การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง |
| Issue Date: | 2004 |
| Publisher: | Chulalongkorn University |
| Abstract: | This study was aimed to prepare titanium dioxide thin film on glass plate using sol-gel technique for photocatalytic reduction of chromium (VI). Titanium (IV) butoxide, ethanol, hydrochloric acid, acetylacetone were used as initial substrate, solvent, acidic catalyst and additive substrate, respectively. Mole ratio of precursor solution, calcination temperature, and coating cycles were studied for optimum condition to prepare a thin film as indicated by adherence and corrosive properties, TiO2 molecular structure and surface morphology of thin film. The mole ratio of titanium (IV) butoxide : ethanol : hydrochloric acid : acetylacetone as 1:30:0.5:1 with 500℃ calcination temperature and 3 coating cycles provided the best thin film properties with highest of anatase peak resulting highest efficiency in chromium (VI) removal approximately 98.88%. Findings from this research are beneficial for an application of TiO2 thin film in environmental aspects. |
| Other Abstract: | ในงานวิจัยนี้ได้ศึกษาถึงการเคลือบผิวฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์บนแผ่นแก้วด้วยวิธีโซลเจลสำหรับการกำจัดโครเมียมด้วยวิธีโฟโตคะตะไลดิกรีดักชัน โดยใช้ไททาเนียมบิวทอกไซด์เป็น สารตั้งต้น เอธานอลเป็นตัวทำละลาย และกรดไฮโดรคลอลิกเป็นสารเร่งปฏิกิริยา นอกจากนี้ยังใช้อะซิติลอะซิโตนร่วมด้วยในการเคลือบผิว ซึ่งในการศึกษาครั้งนี้ได้ทำการศึกษาถึงสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบผิวฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์โดยใช้อัตราส่วนของสารตั้งต้น อุณหภูมิที่ใช้ในการอบเคลือบผิวและจำนวนรอบในการเคลือบผิวที่แตกต่างกัน โดยฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ที่เตรียมได้นั้นจะถูกนำไปศึกษาคุณสมบัติทั้งทางด้านกายภาพและเคมี ได้แก่ การยึดติดผิว การทนต่อการกัดกร่อน โครงสร้างผลึกของไททาเนียมไดออกไซด์และลักษณะพื้นผิวของฟิล์มบางเป็นต้น จากการศึกษาพบว่าฟิล์มบางที่เตรียมได้จากอัตราส่วนของสารตั้งต้นเท่ากับ 1:30:0.5:1 อบเคลือบผิวที่ อุณหภูมิ 500 องศาเซลเซียสและทำการเคลือบผิวเป็นจำนวน 3 รอบนั้นมีประสิทธิภาพในการกำจัดโครเมียมด้วยกระบวนการโฟโตคะตะไลซิสมากที่สุดถึง 98.88% เนื่องจากฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์มีโครงสร้างผลึกในรูปอนาเทสมากที่สุด ซึ่งผลจากการวิจัยครั้งนี้สามารถนำไปใช้เป็นข้อมูลพื้นฐานสำหรับการเคลือบผิวฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์เพื่อประยุกต์ใช้ในกำจัดสิ่งปนเปื้อนออกจากน้ำเสียในระบบโฟโตคะตะไลซิสขนาดใหญ่ |
| Description: | Thesis (M.Sc.)--Chulalongkorn University, 2004 |
| Degree Name: | Master of Science |
| Degree Level: | Master's Degree |
| Degree Discipline: | Environmental Management (Inter-Department) |
| URI: | http://cuir.car.chula.ac.th/handle/123456789/69350 |
| ISBN: | 9745311197 |
| Type: | Thesis |
| Appears in Collections: | Grad - Theses |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Siriwan_po_front_p.pdf | 1.11 MB | Adobe PDF | View/Open | |
| Siriwan_po_ch1_p.pdf | 701.64 kB | Adobe PDF | View/Open | |
| Siriwan_po_ch2_p.pdf | 1.22 MB | Adobe PDF | View/Open | |
| Siriwan_po_ch3_p.pdf | 925.8 kB | Adobe PDF | View/Open | |
| Siriwan_po_ch4_p.pdf | 2.85 MB | Adobe PDF | View/Open | |
| Siriwan_po_ch5_p.pdf | 674.1 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.