DSpace Repository

การปลูกชั้นอิพิแทกซีอินเดียมอาร์เซไนด์บนแผ่นฐานแกลเลียมอาร์เซไนด์โดยวิธีปลูกผลึกจากลำโมเลกุล

Show simple item record

dc.contributor.advisor สมชัย รัตนธรรมพันธ์
dc.contributor.author ไมตรี ไพศาลภาณุมาศ, 2521-
dc.contributor.other จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย. คณะวิศวกรรมศาสตร์
dc.date.accessioned 2006-08-01T07:29:32Z
dc.date.available 2006-08-01T07:29:32Z
dc.date.issued 2545
dc.identifier.isbn 9741727704
dc.identifier.uri http://cuir.car.chula.ac.th/handle/123456789/1304
dc.description วิทยานิพนธ์ (วศ.ม.)--จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย, 2545 en
dc.description.abstract วิทยานิพนธ์ฉบับนี้ เป็นการศึกษาเงื่อนไขการปลูกผลึกอิพิแทกซีอินเดียมอาร์เซไนด์บนแผ่นฐานแกลเลียมอาร์เซไนด์ โดยวิธีการปลูกผลึกจากลำโมเลกุล และตรวจสอบคุณภาพของผลึก โดยใช้ Optical Microscope, SEM, RHEED, และวัดคุณสมบัติทางไฟฟ้าด้วยวิธี van der Pauw โดยทำการศึกษาอิทธิพลของอุณหภูมิแผ่นฐาน อัตราส่วนความดันไอของอาร์เซนิกต่ออินเดียมและอัตราการปลูกผลึก ผลจากการทดลองพบว่าการปลูกผลึกอิพิแทกซีอินเดียมอาร์เซไนด์โดยไม่เติมสารเจือ ผลึกที่ได้เป็นชนิดเอ็น ซึ่งมีความหนาแน่นของประจุพาหะอยู่ในช่วง 8x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10 cm -3 ถึง 8x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10x10 cm -3 และค่าความคล่องตัวของประจุพาหะ ขึ้นอยูกับเงื่อนไขการปลูก ในการทดลองพบว่าอุณหภูมิแผ่นฐานที่เหมาะสมที่สุดอยู่ที่ 480 องศาเซลเซียส ที่อุณหภูมินี้จะได้ทั้งคุณภาพของผลึกที่ดีทั้งคุณสมบัติทางไฟฟ้า และผิวหน้าที่ราบเรียบ สำหรับการทดลองหาเงื่อนไขอัตราส่วนความดันไอของอาร์เซนิกต่ออินเดียม พบว่าช่วงที่เหมาะสมอยู่ที่ 22-32 เท่า และอัตราความเร็วในการปลูกที่สามารถปลูกได้ คือ 0.34-0.48 ML/s แต่ค่าที่เหมาะสมอยู่ที่ 0.4 ML/s ซึ่งค่านี้จะได้ทั้งผิวหน้าที่ราบเรียบ และค่าความคล่องตัวที่สูงที่สุดประมาณ 8,000 cm2/V-s ที่ความหนา 1 mum en
dc.description.abstractalternative This thesis studies the growth condition of InAs epitaxy on GaAs substrate by the Molecular Beam Epitaxy technique (MBE). The quality of epitaxial layers are investigated by optical microscope, scanning electron microscope (SEM), reflection high energy electron diffraction (RHEED) and the electrical properties are measured by van der Pauw technique. The investigations are conducted to study the following effects : namely, the substrate temperature used in the growth process, the beam equivalent pressure ratio (BEP) As4/In and the growth rate. The results from the experiment show that undoped InAs epitaxy is the n-type. The carrier mobility and surface morphology depend on the growth condition. The optimal substrate temperature is at 480 ํC providing single crystal with high crystalline quality and specular surface. The BEP ratio As4/In ranging of 22-32 times has been found to be an appropriate growth condition and the growth rate has an interval about 0.34-0.48 ML/s which has an optimal value at 0.4 ML/s.At this growth rate, flat surface and high carrier mobility are obtained. The mobility of InAs epilayer is found to be approximately about 8,000 cm2/V-s at 1 mu m. en
dc.format.extent 1276128 bytes
dc.format.mimetype application/pdf
dc.language.iso th en
dc.publisher จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย en
dc.rights จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย en
dc.subject อินเดียมอาร์เซไนด์ en
dc.subject แกลเลียมอาร์เซไนด์ en
dc.subject การปลูกผลึกอิพิแทกซีจากลำโมเลกุล en
dc.title การปลูกชั้นอิพิแทกซีอินเดียมอาร์เซไนด์บนแผ่นฐานแกลเลียมอาร์เซไนด์โดยวิธีปลูกผลึกจากลำโมเลกุล en
dc.title.alternative The growth of InAs epilayers on GaAs substrate by molecular beam epitaxy en
dc.type Thesis en
dc.degree.name วิศวกรรมศาสตรมหาบัณฑิต en
dc.degree.level ปริญญาโท en
dc.degree.discipline วิศวกรรมไฟฟ้า en
dc.degree.grantor จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย en
dc.email.advisor Somchai.R@chula.ac.th


Files in this item

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record